光刻机，重大突破！
8月，我国由璞璘科技自主研发的第一台纳米压印设备顺利验收并交付，成功打破了国外厂商的技术垄断。
而这台设备的厉害之处，还有两点：
一个是关键指标超过了国际巨头。该设备可以支持线宽小于10nm的纳米压印光刻工艺，已经超过光刻机龙头佳能同类产品（支持14nm线宽）的水平。
一个是大幅缩减成本。与传统光刻技术相比，纳米压印可以降低60%的设备投入成本，并降低90%的耗电量。
不过，即便如此，传统光刻机依然是重中之重。
因为就当前的水平来看，纳米压印光刻工艺虽然非常契合存储芯片的生产，但其在复杂的逻辑芯片（如CPU、GPU）上却有效率瓶颈。
说白了，要生产3nm甚至更高端的芯片，EUV极紫外光刻机仍旧不可或缺，而这恰恰也是我国较为薄弱的环节。
